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RF射頻低溫等離子處理設備RFD-200

  • 總供應量500
基本信息:
  • AC220(伏)功率
    800(瓦)
    否建議零售價
    ¥0.00
  • PLAUX-RFD-200原理
    等離子體
    工業用品牌
    PLAUX
詳細信息:

RFD-200 設備配置技術參數

機臺名稱:RF射頻低溫等離子設備

機臺型號:RFD-200

電源:AC220V(±10%)

功率:800VA

處理深度:100mm

主機尺寸:250(W)×200(H)×360(D)mm

主機重量:8kg

變壓器尺寸:250(W)×400(H) ×300(D)mm

變壓器箱重量:22kg

主機和變壓器之間的連線:

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